產品技術
Product technologies
基於物聯感測+資訊化+大資料│↟， 提供高階分析儀器儀表✘₪✘✘、資訊化軟體✘₪✘✘、運維服務✘₪✘✘、運營服務✘₪✘✘、檢測服務✘₪✘✘、諮詢服務及環境治理裝備等創新產品和業務組合◕·。
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LTGA-200 鐳射痕量氣體分析儀LTGA-200鐳射痕量氣體分析儀結合半導體鐳射吸收光譜技術和長光程低吸附測量氣室技術│↟，實現了針對高吸附性痕量氣體的穩定檢測◕·。產品採用標準機箱式設計│↟，適配標準19英寸機櫃│↟，為環境大氣✘₪✘✘、特定區域（如工業園區）大氣的有毒有害氣體和惡臭氣體監測提供了最佳的解決方案◕·。瞭解詳情 -
TGA-327高精度痕量氣體分析儀高精度痕量氣體分析儀（TGA-327）是一款專為半導體行業空氣分子汙染分析（AMC）測量氟化氫(HF)而設計的專業儀器│↟，採用光腔衰蕩光譜技術（CRDS）│↟，具有超高的靈敏度│↟，其檢測下限可達ppt級別◕·。不需要現場校準│↟，非常適合連續測量◕·。
該分析儀內部管路都進行了特殊塗層│↟，可以有效的減小氟化氫(HF)分子在管道壁上的吸附│↟，加速測量的響應時間並消除測量偏差◕·。同時分析儀採 用小體積腔設計│↟，能夠進一步提升測量速度◕·。
光腔衰蕩光譜（CRDS）與離子遷移譜（IMS）和離子色譜傳統技術相比│↟，具有探測下限低✘₪✘✘、響應時間快✘₪✘✘、無需耗材等顯著優勢│↟，該分析儀具有更優的長期穩定性和低維護性│↟，是半導體行業AMC連續監測的理想選擇◕·。瞭解詳情 -
TGA-323高精度痕量氣體分析儀高精度痕量氣體分析儀（TGA-323）是一款專為半導體行業空氣分子汙染分析（AMC）測量氯化氫(HCl)而設計的專業儀器│↟，採用光腔衰蕩光譜技術（CRDS）│↟，具有超高的靈敏度│↟，其檢測下限可達ppt級別◕·。不需要現場校準│↟，非常適合連續測量◕·。
該分析儀內部管路都進行了特殊塗層│↟，可以有效的減小氯化氫(HCl)分子在管道壁上的吸附│↟，加速測量的響應時間並消除測量偏差◕·。同時分析儀採用小體積腔設計│↟，能夠進一步提升測量速度◕·。
光腔衰蕩光譜（CRDS）與離子遷移譜（IMS）和離子色譜傳統技術相比│↟，具有探測下限低✘₪✘✘、響應時間快✘₪✘✘、無需耗材等顯著優勢│↟，該分析儀具有更優的長期穩定性和低維護性│↟，是半導體行業AMC連續監測的理想選擇◕·。瞭解詳情 -
TGA-321高精度痕量氣體分析儀高精度痕量氣體分析儀（TGA-321）是一款專為半導體行業空氣分子汙染分析（AMC）測量氨氣(NH3)而設計的專業儀器│↟，採用光腔衰蕩光譜技術（CRDS）│↟，具有超高的靈敏度│↟，其檢測下限可達ppt級別◕·。不需要現場校準│↟，非常適合連續測量◕·。
分析儀內部管路都進行了特殊塗層│↟，可以有效的減小氨氣(NH3)分子在管道壁上的吸附│↟，加速測量的響應時間並消除測量偏差◕·。同時分析儀採用小體積腔設計│↟，能夠進一步提升測量速度◕·。
光腔衰蕩光譜（CRDS）與離子遷移譜（IMS）和離子色譜傳統技術相比│↟，具有探測下限低✘₪✘✘、響應時間快✘₪✘✘、無需耗材等顯著優勢│↟，該分析儀具有更優的長期穩定性和低維護性│↟，是半導體行業AMC連續監測的理想選擇◕·。瞭解詳情
